Zobrazenie ceny: bez DPH
Zobrazovaná mena:
Zoradiť podľa:

Upresniť výber pre "ASTM - Všetky - strana 9039" podľa:    


ASTM F949-09 Historická

Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings

NEPLATNÁ vydaná dňa 1.8.2009

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
83.70


SKLADOM
ASTM F949-10 Historická

Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings

NEPLATNÁ vydaná dňa 1.2.2010

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
83.70


SKLADOM
ASTM F949-15 Historická

Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings

NEPLATNÁ vydaná dňa 1.4.2015

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
83.70


SKLADOM
ASTM F949-15(2019) Historická

Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings

NEPLATNÁ vydaná dňa 1.8.2019

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
83.70


SKLADOM
ASTM F949-20 Historická

Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings

NEPLATNÁ vydaná dňa 15.2.2020

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
83.70


SKLADOM
ASTM F95-89(2000) Historická

Standard Test Method for Thickness of Lightly Doped Silicon Epitaxial Layers on Heavily Doped Silicon Substrates Using an Infrared Dispersive Spectrophotometer (Withdrawn 2003)

NEPLATNÁ vydaná dňa 1.1.2000

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
75.00


SKLADOM
ASTM F950-02 Historická

Standard Test Method for Measuring the Depth of Crystal Damage of a Mechanically Worked Silicon Slice Surface by Angle Polishing and Defect Etching (Withdrawn 2003)

NEPLATNÁ vydaná dňa 10.12.2002

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
75.00


SKLADOM
ASTM F950-98 Historická

Standard Test Method for Measuring the Depth of Crystal Damage of a Mechanically Worked Silicon Slice Surface by Angle Polishing and Defect Etching

NEPLATNÁ vydaná dňa 10.5.1998

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
75.00


SKLADOM
ASTM F951-01 Historická

Standard Test Method for Determination of Radial Interstitial Oxygen Variation in Silicon Wafers

NEPLATNÁ vydaná dňa 10.1.2002

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
75.00


SKLADOM
ASTM F951-02 Historická

Standard Test Method for Determination of Radial Interstitial Oxygen Variation in Silicon Wafers (Withdrawn 2003)

NEPLATNÁ vydaná dňa 10.1.2002

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
75.00


SKLADOM

Zobrazený záznam od 90380 až 90390 z celkom 91730 záznamov.


Potrebujete pomoc?


Cookies Cookies

Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.

Súhlas môžete odmietnuť tu.

Tu máte možnosť prispôsobiť si nastavenia súborov cookies v súlade s vlastnými preferenciami.

Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov.