ASTM F950-02

Standard Test Method for Measuring the Depth of Crystal Damage of a Mechanically Worked Silicon Slice Surface by Angle Polishing and Defect Etching (Withdrawn 2003)

Automaticky preložený názov:

Štandardná skúšobná metóda pre meranie hĺbky Crystal Poškodenie jedného mechanicky opracované Silicon Slice povrchu Angle leštenie a defektov leptanie ( Withdrawn 2003 )



NORMA vydaná dňa 10.12.2002


Jazyk
Prevedenie
DostupnosťSKLADOM
Cena79.90 bez DPH
79.90

Informácie o norme:

Označenie normy: ASTM F950-02
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 10.12.2002
Kód tovaru: NS-57040
Počet strán: 6
Približná hmotnosť: 18 g (0.04 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM

Anotácia textu normy ASTM F950-02 :

Keywords:

bevel polish, damage-depth, defect, preferential etch, silicon, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)

Odporúčame:

Aktualizácia technických noriem

Chcete mať istotu, že používate len platné technické normy?
Ponúkame Vám riešenie, ktoré Vám zaistí mesačný prehľad o aktuálnosti noriem, ktoré používate.

Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.




Cookies Cookies

Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.

Súhlas môžete odmietnuť tu.

Tu máte možnosť prispôsobiť si nastavenia súborov cookies v súlade s vlastnými preferenciami.

Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov.