ASTM F95-89(2000)

Standard Test Method for Thickness of Lightly Doped Silicon Epitaxial Layers on Heavily Doped Silicon Substrates Using an Infrared Dispersive Spectrophotometer (Withdrawn 2003)

Automaticky preložený názov:

Štandardná skúšobná metóda pre Hrúbka ľahko dopovaný Silicon epitaxných vrstiev na Silne dotovaný kremíkových podložkách pomocou infračerveného disperzné spektrofotometra ( Withdrawn 2003 )



NORMA vydaná dňa 1.1.2000


Jazyk
Prevedenie
DostupnosťSKLADOM
Cena79.90 bez DPH
79.90

Informácie o norme:

Označenie normy: ASTM F95-89(2000)
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 1.1.2000
Kód tovaru: NS-57039
Počet strán: 7
Približná hmotnosť: 21 g (0.05 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM

Anotácia textu normy ASTM F95-89(2000) :

Keywords:

epi, epi thickness, epitaxial layer, FTIR, index of refraction, IR, layer thickness, spectrophotometer, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)

Odporúčame:

Aktualizácia technických noriem

Chcete mať istotu, že používate len platné technické normy?
Ponúkame Vám riešenie, ktoré Vám zaistí mesačný prehľad o aktuálnosti noriem, ktoré používate.

Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.




Cookies Cookies

Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.

Súhlas môžete odmietnuť tu.

Tu máte možnosť prispôsobiť si nastavenia súborov cookies v súlade s vlastnými preferenciami.

Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov.