Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
Test Method for Distortion of Optical Lenses Used in Photomask Fabrication (Includes all amendments And changes 8/13/2021).
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.1.1991
Vybraný formát:Practice for Determining Safe Current Pulse Operating Regions for Metallization on Semiconductor Components (Withdrawn 1995)
Vybraný formát:Standard Practice for Determining Safe Current Pulse-Operating Regions for Metallization on Semiconductor Components [Metric]
NEPLATNÁ vydaná dňa 15.5.1995
Vybraný formát:Standard Practice for Determining Safe Current Pulse-Operating Regions for Metallization on Semiconductor Components [Metric]
NEPLATNÁ vydaná dňa 15.5.1995
Vybraný formát:Standard Practice for Determining Safe Current Pulse-Operating Regions for Metallization on Semiconductor Components (Metric)
NEPLATNÁ vydaná dňa 15.6.2008
Vybraný formát:Standard Practice for Determining Safe Current Pulse-Operating Regions for Metallization on Semiconductor Components (Metric) (Withdrawn 2022)
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.5.2013
Vybraný formát:Standard Test Method for Measuring MOSFET Drain Leakage Current
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.1.1992
Vybraný formát:Standard Test Method for Measuring MOSFET Drain Leakage Current (Metric)
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.6.1996
Vybraný formát:Standard Test Method for Measuring MOSFET Drain Leakage Current (Metric) (Withdrawn 2009)
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.6.1996
Vybraný formát:Standard Test Method for Measuring MOSFET Linear Threshold Voltage (Withdrawn 2006)
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.6.2000
Vybraný formát:Zobrazený záznam od 88980 až 88990 z celkom 91752 záznamov.
Posledná aktualizácia: 2026-06-26 (Počet položiek: 2 284 409)
© Copyright 2026 NORMSERVIS s.r.o.