IEC - Mezinárodní elektrotechnická organizace - strana 793

Normy IEC - Mezinárodní elektrotechnická organizace - strana 793

IEC - Společnost IEC je přední světová organizace, která vytváří a vydává Mezinárodní normy pro veškeré elektrické, elektronické a další související technologie, které se souhrnně nazývají "elektrotechnologie". Všude tam, kde se nachází elektřina a elektronika, najdete i společnost IEC, která prosazuje bezpečnost a výkon, životní prostředí, účinnost elektřiny a obnovitelné energie. Společnost IEC také spravuje systémy pro posuzování shody, které prokazují, že zařízení, systémy či komponenty vyhovují Mezinárodním normám této společnosti.

Zobrazenie ceny: bez DPH
Zobrazovaná mena:
Zoradiť podľa:

Upresniť výber pre "Normy IEC - strana 793" podľa:    


IEC 62047-14-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 14: Forming limit measuring method of metallic film materials
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 14: Methode de mesure des limites de formage des materiaux a couche metallique)

Norma vydaná dňa 28.2.2012

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
147.40


SKLADOM
IEC 62047-16-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 16: Methodes d´essai pour determiner les contraintes residuelles des films de MEMS - Methodes de la courbure de la plaquette et de deviation de poutre en porte-a-faux)

Norma vydaná dňa 5.3.2015

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
51.30


SKLADOM
IEC 62047-17-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 17: Bulge test method for measuring mechanical properties of thin films
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 17: Methode d´essai de renflement pour la mesure des proprietes mecaniques des couches minces)

Norma vydaná dňa 5.3.2015

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
256.30


SKLADOM
IEC 62047-18-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 18: Bend testing methods of thin film materials
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 18: Methodes d´essai de flexion des materiaux en couche mince)

Norma vydaná dňa 17.7.2013

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
102.50


SKLADOM
IEC 62047-19-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 19: Electronic compasses
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 19: Compas electroniques)

Norma vydaná dňa 17.7.2013

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
256.30


SKLADOM
IEC 62047-2-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 2: Tensile testing method of thin film materials
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 2: Methode d´essai de traction des materiaux en couche mince)

Norma vydaná dňa 15.8.2006

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
102.50


SKLADOM
IEC 62047-20-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 20: Gyroscopes
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 20: Gyroscopes)

Norma vydaná dňa 26.6.2014

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
410.20


SKLADOM
IEC 62047-21-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 21: Test method for Poisson´s ratio of thin film MEMS materials
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 21: Methode d´essai relative au coefficient de Poisson des materiaux MEMS en couche mince)

Norma vydaná dňa 19.6.2014

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
102.50


SKLADOM
IEC 62047-22-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 22: Electromechanical tensile test method for conductive thin films on flexible substrates
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 22: Methode d´essai de traction electromecanique pour les couches minces conductrices sur des substrats souples)

Norma vydaná dňa 19.6.2014

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
51.30


SKLADOM
IEC 62047-25-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 25: Silicon based MEMS fabrication technology - Measurement method of pull-press and shearing strength of micro bonding area
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 25: Technologie de fabrication de MEMS a base de silicium - Methode de mesure de la resistance a la traction-compression et au cisaillement d´une micro zone de brasure)

Norma vydaná dňa 29.8.2016

Vybraný formát:

Zobraziť všetky technické informácie
198.70


SKLADOM

Zobrazený záznam od 7920 až 7930 z celkom 11323 záznamov.


Potrebujete pomoc?


Cookies Cookies

Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.

Súhlas môžete odmietnuť tu.

Tu máte možnosť prispôsobiť si nastavenia súborov cookies v súlade s vlastnými preferenciami.

Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov.