Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
ASTM - Společnost ASTM International je jednou z největších nezávislých organizací pro rozvoj norem ve světě - spolehlivý zdroj technických norem pro materiály, výrobky, systémy a služby. Normy společnosti ASTM International jsou známé svojí vysokou technickou kvalitou a aktuálností v rámci trhu, a proto hrají důležitou roli v informační infrastruktuře, která řídí projekci, výrobu a obchod v globální ekonomice. ASTM vydává normy zabývající se kovy, hořlavostí, chemickými výrobky, mazivy, fosilními palivy, textiliemi, barvami, pryží, potrubím, forenzními vědami, elektronikou, energetikou, lékařskými přístroji a bezpočtem dalších témat.
Standard Guide for Scope of Performance of First Responders Who Practice in the Wilderness or Delayed or Prolonged Transport Settings
NEPLATNÁ vydaná dňa 15.8.1995
Vybraný formát:Standard Guide for Scope of Performance of First Responders Who Practice in the Wilderness or Delayed or Prolonged Transport Settings
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.3.2009
Vybraný formát:Standard Guide for Scope of Performance of First Responders Who Practice in the Wilderness or Delayed or Prolonged Transport Settings (Withdrawn 2025)
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.6.2016
Vybraný formát:Standard Test Method for Measuring Surface Sodium, Aluminum, Potassium, and Iron on Silicon and EPI Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.5.1998
Vybraný formát:Standard Test Method for Measuring Surface Sodium, Aluminum, Potassium, and Iron on Silicon and EPI Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry (Withdrawn 2003)
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.5.1998
Vybraný formát:Standard Practice for Determination of Uniformity of Thin Films on Silicon Wafers (Withdrawn 2003)
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.5.2002
Vybraný formát:Standard Practice for Determination of Uniformity of Thin Films on Silicon Wafers
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.1.1996
Vybraný formát:Standard Test Method for Measurement of Interstitial Oxygen Content of Silicon Wafers by Infrared Absorption Spectroscopy with p-Polarized Radiation Incident at the Brewster Angle
NEPLATNÁ vydaná dňa 15.9.1995
Vybraný formát:Standard Test Method for Measurement of Interstitial Oxygen Content of Silicon Wafers by Infrared Absorption Spectroscopy with p-Polarized Radiation Incident at the Brewster Angle (Withdrawn 2003) (Includes all amendments And changes 8/16/2017).
NEPLATNÁ vydaná dňa 15.9.1995
Vybraný formát:Standard Practice for Calibrating a Scanning Surface Inspection System Using Monodisperse Polystyrene Latex Spheres Deposited on Polished or Epitaxial Wafer Surfaces (Withdrawn 2003)
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.1.1996
Vybraný formát:Zobrazený záznam od 81630 až 81640 z celkom 91777 záznamov.
Posledná aktualizácia: 2026-07-02 (Počet položiek: 2 285 991)
© Copyright 2026 NORMSERVIS s.r.o.