Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
ASTM - Společnost ASTM International je jednou z největších nezávislých organizací pro rozvoj norem ve světě - spolehlivý zdroj technických norem pro materiály, výrobky, systémy a služby. Normy společnosti ASTM International jsou známé svojí vysokou technickou kvalitou a aktuálností v rámci trhu, a proto hrají důležitou roli v informační infrastruktuře, která řídí projekci, výrobu a obchod v globální ekonomice. ASTM vydává normy zabývající se kovy, hořlavostí, chemickými výrobky, mazivy, fosilními palivy, textiliemi, barvami, pryží, potrubím, forenzními vědami, elektronikou, energetikou, lékařskými přístroji a bezpočtem dalších témat.
Standard Practice for Use of a Calibration Device to Demonstrate the Inspection Capability of an Interferometric Laser Imaging Nondestructive Tire Inspection System (Includes all amendments And changes 8/16/2017).
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.10.1997
Vybraný formát:Standard Test Method for Water Infiltration Resistance of Plastic Underground Conduit Joints Which Use Flexible Elastomeric Seals (Includes all amendments And changes 8/16/2017).
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.4.1999
Vybraný formát:Standard Test Method for Water Infiltration Resistance of Plastic Underground Conduit Joints Which Use Flexible Elastomeric Seals
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.5.2005
Vybraný formát:Standard Test Method for Water Infiltration Resistance of Plastic Underground Conduit Joints Which Use Flexible Elastomeric Seals
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.8.2009
Vybraný formát:Standard Test Method for Water Infiltration Resistance of Plastic Underground Conduit Joints Which Use Flexible Elastomeric Seals
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.8.2013
Vybraný formát:Standard Test Method for Water Infiltration Resistance of Plastic Underground Conduit Joints Which Use Flexible Elastomeric Seals
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.2.2018
Vybraný formát:Standard Test Method for Measuring Oxygen Concentration in Heavily Doped Silicon Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry (Includes all amendments And changes 3/2/2021).
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.1.1992
Vybraný formát:Standard Test Method for Measuring Oxygen Concentration in Heavily Doped Silicon Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry (Withdrawn 2003)
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.1.1992
Vybraný formát:Standard Specification for Chromium Sputtering Targets for Thin Film Applications
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.8.1998
Vybraný formát:Standard Specification for Chromium Sputtering Targets for Thin Film Applications
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.8.1998
Vybraný formát:Zobrazený záznam od 76610 až 76620 z celkom 87127 záznamov.
Posledná aktualizácia: 2024-10-30 (Počet položiek: 2 208 603)
© Copyright 2024 NORMSERVIS s.r.o.