Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
Surface chemical analysis -- Secondary-ion mass spectrometry -- Method for depth profiling of boron in silicon
NORMA vydaná dňa 20.2.2023
| Jazyk | |
| Prevedenie |
|
| Dostupnosť | SKLADOM |
| Cena | NAOTÁZKU bez DPH |
| NA OTÁZKU |
Označenie normy: JIS K0164:2023
Dátum vydania normy: 20.2.2023
Kód tovaru: NS-1139233
Počet strán: 12
Približná hmotnosť: 36 g (0.08 libier)
Krajina: Japonská technická norma
Kategória: Technické normy JIS
Poskytovanie aktuálnych informácií o legislatívnych predpisoch vyhlásených v Zbierke zákonov od roku 1945.
Aktualizácia 2x v mesiaci !
Chcete vedieť viac informácii ? Pozrite sa na túto stránku.
Posledná aktualizácia: 2026-02-04 (Počet položiek: 2 259 933)
© Copyright 2026 NORMSERVIS s.r.o.