Cookies
Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
E DIN EN 62047-16:2012-11 (Návrh)
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods.
Automaticky preložený názov:
Polovodičové súčiastky - Micro-elektromechanické zariadenia - Časť 16: Skúšobné metódy na stanovenie pnutia MEMS filmov - oblátkové zakrivenie a konzolové odrazu lúča metódy.
NORMA vydaná dňa 1.11.2012
Informácie o norme:
Označenie normy: E DIN EN 62047-16:2012-11
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 1.11.2012
Kód tovaru: NS-292591
Počet strán: 18
Približná hmotnosť: 54 g (0.12 libier)
Krajina: Nemecká technická norma (Návrh)
Kategória: Technické normy DIN
Anotácia textu normy E DIN EN 62047-16:2012-11 :
Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 16: Messverfahren zur Ermittlung der Eigenspannungen in Dünnschichten von MEMS-Bauteilen - Substratkrümmungs- und Biegebalken-Verfahren.
Doporučujeme:
