Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods.
NORMA vydaná dňa 1.11.2012
Označenie normy: E DIN EN 62047-16:2012-11
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 1.11.2012
Počet strán: 18
Približná hmotnosť: 54 g (0.12 libier)
Krajina: Nemecká technická norma
Kategória: Technické normy DIN
Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 16: Messverfahren zur Ermittlung der Eigenspannungen in Dünnschichten von MEMS-Bauteilen - Substratkrümmungs- und Biegebalken-Verfahren.