Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
ASTM - Společnost ASTM International je jednou z největších nezávislých organizací pro rozvoj norem ve světě - spolehlivý zdroj technických norem pro materiály, výrobky, systémy a služby. Normy společnosti ASTM International jsou známé svojí vysokou technickou kvalitou a aktuálností v rámci trhu, a proto hrají důležitou roli v informační infrastruktuře, která řídí projekci, výrobu a obchod v globální ekonomice. ASTM vydává normy zabývající se kovy, hořlavostí, chemickými výrobky, mazivy, fosilními palivy, textiliemi, barvami, pryží, potrubím, forenzními vědami, elektronikou, energetikou, lékařskými přístroji a bezpočtem dalších témat.
Standard Guide for Use of Advanced Oxidation Process for the Mitigation of Chemical Spills
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.4.2013
Vybraný formát:Standard Guide for Use of Membrane Technology in Mitigating Hazardous Chemical Spills
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.4.1996
Vybraný formát:Standard Guide for Use of Membrane Technology in Mitigating Hazardous Chemical Spills
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.4.1996
Vybraný formát:Standard Guide for Use of Membrane Technology in Mitigating Hazardous Chemical Spills (Withdrawn 2015)
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.10.2009
Vybraný formát:Standard Test Method for Measuring Surface Metal Contamination on Silicon Wafers by Total Reflection X-Ray Fluorescence Spectroscopy (Withdrawn 2003)
NEPLATNÁ vydaná dňa 1.1.2000
Vybraný formát:Standard Guide for Application of Silicon Standard Reference Materials and Reference Wafers for Calibration and Control of Instruments for Measuring Resistivity of Silicon
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.6.2000
Vybraný formát:Standard Guide for Application of Certified Reference Materials and Reference Wafers for Calibration and Control of Instruments for Measuring Resistivity of Silicon (Withdrawn 2003)
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.7.2002
Vybraný formát:Standard Test Method for Measuring Boron Contamination in Heavily Doped N-Type Silicon Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry (Withdrawn 2003)
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.12.1999
Vybraný formát:Standard Test Method for Sheet Resistance Uniformity Evaluation by In-Line Four-Point Probe with the Dual-Configuration Procedure
NEPLATNÁ vydaná dňa 10.12.2002
Vybraný formát:Standard Test Method for Sheet Resistance Uniformity Evaluation by In-Line Four-Point Probe with the Dual-Configuration Procedure (Withdrawn 2003)
NEPLATNÁ vydaná dňa 5.12.1997
Vybraný formát:Zobrazený záznam od 80890 až 80900 z celkom 91334 záznamov.
Posledná aktualizácia: 2026-05-02 (Počet položiek: 2 275 366)
© Copyright 2026 NORMSERVIS s.r.o.