Cookies
Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
ISO 23170:2022
Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
NORMA vydaná dňa 15.6.2022
Informácie o norme:
Označenie normy: ISO 23170:2022
Dátum vydania normy: 15.6.2022
Kód tovaru: NS-1064983
Počet strán: 29
Približná hmotnosť: 87 g (0.19 libier)
Krajina: Medzinárodná technická norma
Kategória: Technické normy ISO
Kategórie - podobné normy:
Anotácia textu normy ISO 23170:2022 :
Description / Abstract: This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).
Odporúčame:
Aktualizácia technických noriem
Chcete mať istotu, že používate len platné technické normy?
Ponúkame Vám riešenie, ktoré Vám zaistí mesačný prehľad o aktuálnosti noriem, ktoré používate.
Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.
