Cookies
Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
ISO 22415:2019
Surface chemical analysis — Secondary ion mass spectrometry — Method for determining yield volume in argon cluster sputter depth profiling of organic materials
NORMA vydaná dňa 10.5.2019
Informácie o norme:
Označenie normy: ISO 22415:2019
Dátum vydania normy: 10.5.2019
Kód tovaru: NS-949081
Počet strán: 30
Približná hmotnosť: 90 g (0.20 libier)
Krajina: Medzinárodná technická norma
Kategória: Technické normy ISO
Kategórie - podobné normy:
Anotácia textu normy ISO 22415:2019 :
Description / Abstract: This document specifies a method for measuring and reporting argon cluster sputtering yield volumes of a specific organic material. The method requires one or more test samples of the specified material as a thin, uniform film of known thickness between 50 and 1 000 nanometres on a flat substrate which has a different chemical composition to the specified material. This document is applicable to test samples in which the specified material layer has homogeneous composition in depth and is not applicable if the depth distribution of compounds in the specified material is inhomogeneous. This document is applicable to instruments in which the sputtering ion beam irradiates the sample using a raster to ensure a constant ion dose over the analysis area.
Odporúčame:
Aktualizácia technických noriem
Chcete mať istotu, že používate len platné technické normy?
Ponúkame Vám riešenie, ktoré Vám zaistí mesačný prehľad o aktuálnosti noriem, ktoré používate.
Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.
