Cookies
Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
ISO 21859:2019
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) — Test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment
NORMA vydaná dňa 18.6.2019
Informácie o norme:
Označenie normy: ISO 21859:2019
Dátum vydania normy: 18.6.2019
Kód tovaru: NS-953202
Počet strán: 4
Približná hmotnosť: 12 g (0.03 libier)
Krajina: Medzinárodná technická norma
Kategória: Technické normy ISO
Kategórie - podobné normy:
Anotácia textu normy ISO 21859:2019 :
Description / Abstract: This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.
Odporúčame:
Aktualizácia technických noriem
Chcete mať istotu, že používate len platné technické normy?
Ponúkame Vám riešenie, ktoré Vám zaistí mesačný prehľad o aktuálnosti noriem, ktoré používate.
Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.
