Cookies
Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
ISO 21466:2019
Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM
NORMA vydaná dňa 13.12.2019
Informácie o norme:
Označenie normy: ISO 21466:2019
Dátum vydania normy: 13.12.2019
Kód tovaru: NS-978498
Počet strán: 47
Približná hmotnosť: 141 g (0.31 libier)
Krajina: Medzinárodná technická norma
Kategória: Technické normy ISO
Kategórie - podobné normy:
Anotácia textu normy ISO 21466:2019 :
Description / Abstract: This document specifies the structure model with related parameters, file format and fitting procedure for characterizing critical dimension (CD) values for wafer and photomask by imaging with a critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM) by the model-based library (MBL) method. The method is applicable to linewidth determination for specimen, such as, gate on wafer, photomask, single isolated or dense line feature pattern down to size of 10 nm.
Odporúčame:
Aktualizácia zákonov
Chcete mať istotu o platnosti využívaných predpisov?
Ponúkame Vám riešenie, aby ste mohli používať stále platné (aktuálne) legislatívne predpisy
Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.
