Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
Surface chemical analysis — Depth profiling — Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS
NORMA vydaná dňa 5.10.2020
Označenie normy: ISO 16531:2020-ed.2.0
Dátum vydania normy: 5.10.2020
Kód tovaru: NS-1007044
Počet strán: 19
Približná hmotnosť: 57 g (0.13 libier)
Krajina: Medzinárodná technická norma
Kategória: Technické normy ISO
Description / Abstract: This document specifies methods for the alignment of the ion beam to ensure good depth resolution in sputter depth profiling and optimal cleaning of surfaces when using inert gas ions in Auger electron spectroscopy (AES) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). These methods are of two types: one involves a Faraday cup to measure the ion current; the other involves imaging methods. The Faraday cup method also specifies the measurements of current density and current distributions in ion beams. The methods are applicable for ion guns with beams with a spot size less than or equal to 1 mm in diameter. The methods do not include depth resolution optimization.
Poskytovanie aktuálnych informácií o legislatívnych predpisoch vyhlásených v Zbierke zákonov od roku 1945.
Aktualizácia 2x v mesiaci !
Chcete vedieť viac informácii ? Pozrite sa na túto stránku.
Posledná aktualizácia: 2026-05-11 (Počet položiek: 2 276 740)
© Copyright 2026 NORMSERVIS s.r.o.