Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
Nanomanufacturing - Key control characteristics - Part 6-8: Graphene - Sheet resistance: In-line four-point probe
NORMA vydaná dňa 7.6.2023
Označenie normy: IEC/TS 62607-6-8-ed.1.0
Dátum vydania normy: 7.6.2023
Kód tovaru: NS-1145851
Počet strán: 22
Približná hmotnosť: 66 g (0.15 libier)
Krajina: Medzinárodná technická norma
Kategória: Technické normy IEC
IEC TS 62607-6-8:2023 establishes a method to determine the key control characteristic sheet resistance RS [measured in ohm per square (ohm/sq)], by the in-line four-point probe method, 4PP. The sheet resistance RS is derived by measurements of four-terminal electrical resistance performed on four electrodes placed on the surface of the planar sample. The measurement range for RS of the graphene samples with the method described in this document goes from 10-2 ohm/sq to 104 ohm/sq. The method is applicable for CVD graphene provided it is transferred to quartz substrates or other insulating materials (quartz, SiO2 on Si, as well as graphene grown from silicon carbide. The method is complementary to the van der Pauw method (IEC 62607-6-7) for what concerns the measurement of the sheet resistance and can be useful when it is not possible to reliably place contacts on the sample boundary.
Chcete mať istotu, že používate len platné technické normy?
Ponúkame Vám riešenie, ktoré Vám zaistí mesačný prehľad o aktuálnosti noriem, ktoré používate.
Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.
Posledná aktualizácia: 2024-04-28 (Počet položiek: 2 896 137)
© Copyright 2024 NORMSERVIS s.r.o.