Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 47: Silicon based MEMS fabrication technology - Measurement method of bending strength of microstructures
NORMA vydaná dňa 23.8.2024
Označenie normy: IEC 62047-47-ed.1.0
Dátum vydania normy: 23.8.2024
Kód tovaru: NS-1196030
Približná hmotnosť: 300 g (0.66 libier)
Krajina: Medzinárodná technická norma
Kategória: Technické normy IEC
IEC 62047-47:2024 specifies the requirements and testing method to measure the bending strength of microstructures which are fabricated by micromachining technology used in silicon-based micro-electromechanical system (MEMS). This document is applicable to the in-situ bending strength measurement of microstructures manufactured by microelectronic technology process and other micromachining technology. With the devices scaling, the bending strength degradation, induced by defects and contaminations, becomes more severe. This document specifies an in-situ testing method of the bending strength based on MEMS technique. This document does not need intricate instruments (such as scanning probe microscopy and nanoindenter) and special test specimens. Since in-situ on-chip tester in this document and device are fabricated with the same process on the same wafer, this document can give some practical reference for the design part.
Chcete mať istotu, že používate len platné technické normy?
Ponúkame Vám riešenie, ktoré Vám zaistí mesačný prehľad o aktuálnosti noriem, ktoré používate.
Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.
Posledná aktualizácia: 2025-07-30 (Počet položiek: 2 209 957)
© Copyright 2025 NORMSERVIS s.r.o.