Cookies
Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
IEC 62047-31-ed.1.0
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 31: Four-point bending test method for interfacial adhesion energy of layered MEMS materials
NORMA vydaná dňa 5.4.2019
Informácie o norme:
Označenie normy: IEC 62047-31-ed.1.0
Dátum vydania normy: 5.4.2019
Kód tovaru: NS-945686
Počet strán: 12
Približná hmotnosť: 36 g (0.08 libier)
Krajina: Medzinárodná technická norma
Kategória: Technické normy IEC
Kategórie - podobné normy:
Anotácia textu normy IEC 62047-31-ed.1.0 :
IEC 62047-31:2019 (E) specifies a four-point bending test method for measuring interfacial adhesion energy of the weakest interface in the layered micro-electromechanical systems (MEMS) based on the concept of fracture mechanics. In a variety of MEMS devices, there are many layered material interfaces, and their adhesion energies are critical to the reliability of the MEMS devices. The four-point bending test utilizes a pure bending moment applied to a test piece of layered MEMS device, and the interfacial adhesion energy is measured from the critical bending moment for the steady state cracking in the weakest interface. This test method applies to MEMS devices with thin film layers deposited on semiconductor substrates. The total thickness of the thin film layers should be 100 times less than the thickness of a supporting substrate (typically a silicon wafer piece).
Odporúčame:
Aktualizácia zákonov
Chcete mať istotu o platnosti využívaných predpisov?
Ponúkame Vám riešenie, aby ste mohli používať stále platné (aktuálne) legislatívne predpisy
Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.
