Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicon-dioxide coating, optical method.
NORMA vydaná dňa 1.8.2023
Označenie normy: DIN 50453-2:2023-08
Dátum vydania normy: 1.8.2023
Kód tovaru: NS-1148497
Počet strán: 9
Približná hmotnosť: 27 g (0.06 libier)
Krajina: Nemecká technická norma
Kategória: Technické normy DIN
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren.
Chcete mať istotu o platnosti využívaných predpisov?
Ponúkame Vám riešenie, aby ste mohli používať stále platné (aktuálne) legislatívne predpisy
Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.
Posledná aktualizácia: 2026-08-21 (Počet položiek: 2 298 377)
© Copyright 2026 NORMSERVIS s.r.o.