Cookies
Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
ČSN ISO 2361 (038182)
Elektrolyticky vyloučené povlaky niklu na magnetických a nemagnetických podkladech. Měření tloušťky povlaku. Magnetická metoda.
Automaticky preložený názov:
Elektrolyticky vylúčené povlaky niklu na magnetických a nemagnetických podkladoch. Meranie hrúbky povlaku. Magnetická metóda.
NORMA vydaná dňa 1.3.1994
Informácie o norme:
Označenie normy: ČSN ISO 2361
Rozlišovací znak: 038182
Katalógové číslo: 16067
Dátum vydania normy: 1.3.1994
Kód tovaru: NS-178462
Počet strán: 8
Približná hmotnosť: 24 g (0.05 libier)
Krajina: Česká technická norma
Kategória: Technické normy ČSN
Kategórie - podobné normy:
Anotácia textu normy ČSN ISO 2361 (038182):
Norma obsahuje ISO 2361:1982. Stanovuje metodu používající tloušťkoměry magnetického typu pro nedestruktivní měření tloušťky elektrolyticky vyloučených povlaků niklu na magnetických nebo nemagnetických podkladech. Podstata metody. Tloušťkoměry magnetického typu měří buď magnetickou přitažlivou sílu mezi parmanentním magnetem a soustavou povlak/podklad, nebo reluktanci při průchodu magnetického indukčního toku povlakem a podkladem. ČSN ISO 2361 (03 8182) byla vydána v březnu 1994
K tejto norme patria tieto zmeny:
ČSN ISO 2361:1994/1 (038182)
Zmena
Zobraziť všetky technické informácie
Elektrolyticky vyloučené povlaky niklu na magnetických a nemagnetických podkladech. Měření tloušťky povlaku. Magnetická metoda.
Zmena vydaná dňa 1.11.1995
Vybraný formát: Česky - Tlačené (1.20 EUR)
Zobraziť všetky technické informácie
Náhľad normy ČSN ISO 2361 (038182)
Podobné normy:
1.10.1993
20.11.1990
1.10.2004
1.1.2004
1.6.2007
NEPLATNÁ
1.1.2010
Odporúčame:
Aktualizácia technických noriem
Chcete mať istotu, že používate len platné technické normy?
Ponúkame Vám riešenie, ktoré Vám zaistí mesačný prehľad o aktuálnosti noriem, ktoré používate.
Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.
