Cookies
Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
ASTM F518-77(1991)E01
Practice for Determining Effective Adhesion of Photoresist to Hard-Surface Photomask Banks and Semiconductor Wafers During Etching (Withdrawn 1996)
Automaticky preložený názov:
Prax pre stanovenie efektívne Priľnavosť svetlostálych na Hard - Surface fotomaska bánk a polovodičových doštičiek počas leptanie ( Withdrawn 1996 )
Informácie o norme:
Označenie normy: ASTM F518-77(1991)E01
Poznámka: NEPLATNÁ
Kód tovaru: NS-55595
Počet strán: 5
Približná hmotnosť: 15 g (0.03 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM
Odporúčame:
Aktualizácia technických noriem
Chcete mať istotu, že používate len platné technické normy?
Ponúkame Vám riešenie, ktoré Vám zaistí mesačný prehľad o aktuálnosti noriem, ktoré používate.
Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.
