Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
Practice for Determining Effective Adhesion of Photoresist to Hard-Surface Photomask Banks and Semiconductor Wafers During Etching (Withdrawn 1996)
Automaticky preložený názov:
Prax pre stanovenie efektívne Priľnavosť svetlostálych na Hard - Surface fotomaska bánk a polovodičových doštičiek počas leptanie ( Withdrawn 1996 )
Označenie normy: ASTM F518-77(1991)E01
Poznámka: NEPLATNÁ
Kód tovaru: NS-55595
Počet strán: 5
Približná hmotnosť: 15 g (0.03 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM
Chcete mať istotu o platnosti využívaných predpisov?
Ponúkame Vám riešenie, aby ste mohli používať stále platné (aktuálne) legislatívne predpisy
Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.
Posledná aktualizácia: 2024-05-17 (Počet položiek: 2 902 148)
© Copyright 2024 NORMSERVIS s.r.o.