NEPLATNÁ ASTM F518-77(1991)E01 1.1.1900 náhľad

ASTM F518-77(1991)E01

Practice for Determining Effective Adhesion of Photoresist to Hard-Surface Photomask Banks and Semiconductor Wafers During Etching (Withdrawn 1996)

Automaticky preložený názov:

Prax pre stanovenie efektívne Priľnavosť svetlostálych na Hard - Surface fotomaska ​​bánk a polovodičových doštičiek počas leptanie ( Withdrawn 1996 )




Jazyk
Prevedenie
Dostupnosťdo 1 pracovných dní
Cena71.10 bez DPH
71.10

Informácie o norme:

Označenie normy: ASTM F518-77(1991)E01
Poznámka: NEPLATNÁ
Kód tovaru: NS-55595
Počet strán: 5
Približná hmotnosť: 15 g (0.03 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM

Odporúčame:

Aktualizácia technických noriem

Chcete mať istotu, že používate len platné technické normy?
Ponúkame Vám riešenie, ktoré Vám zaistí mesačný prehľad o aktuálnosti noriem, ktoré používate.

Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.




Cookies Cookies

Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.

Súhlas môžete odmietnuť tu.

Tu máte možnosť prispôsobiť si nastavenia súborov cookies v súlade s vlastnými preferenciami.

Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov.