Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
Method for Measurement of Oxide Thickness on Silicon Wafers and Metallization Thickness by Multiple-Beam Interference (Tolansky Method) (Withdrawn 1993)
Automaticky preložený názov:
Metóda merania oxidu hrúbky na kremíkových plátkov a pokovovanie hrúbky pomocou Multiple - Beam rušenia ( Tolansky metóda ) ( Withdrawn 1993 )
Označenie normy: ASTM F388-84
Poznámka: NEPLATNÁ
Kód tovaru: NS-55128
Počet strán: 6
Približná hmotnosť: 18 g (0.04 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM
Keywords:
ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
Posledná aktualizácia: 2024-12-23 (Počet položiek: 2 217 157)
© Copyright 2024 NORMSERVIS s.r.o.