Cookies
Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
ASTM F2113-01(2007)
Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
Automaticky preložený názov:
Štandardné Príručka pre analýzu a reporting obsah nečistôt a jemnosť vysokej čistote Kovové rozprašovanie ciele pre elektronické Thin Film Applications
NORMA vydaná dňa 1.6.2007
Informácie o norme:
Označenie normy: ASTM F2113-01(2007)
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 1.6.2007
Kód tovaru: NS-52870
Počet strán: 2
Približná hmotnosť: 6 g (0.01 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM
Anotácia textu normy ASTM F2113-01(2007) :
Keywords:
electronics, purity analysis, purity grade, sputtering, target, thin film, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
Doplňujúce informácie
| 1. Scope | ||
|
1.1 This guide covers sputtering targets used as thin film source material in fabricating semiconductor electronic devices. It should be used to develop target specifications for specific materials and should be referenced therein. 1.2 This standard sets purity grade levels, analytical methods and impurity content reporting method and format. 1.2.1 The grade designation is a measure of total metallic impurity content. The grade designation does not necessarily indicate suitability for a particular application because factors other than total metallic impurity may influence performance. |
||
| 2. Referenced Documents | ||
|
Odporúčame:
Aktualizácia technických noriem
Chcete mať istotu, že používate len platné technické normy?
Ponúkame Vám riešenie, ktoré Vám zaistí mesačný prehľad o aktuálnosti noriem, ktoré používate.
Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.
