ASTM D5138-11
ASTM E986-04(2010)..
ASTM F1711-96(2008)..
ASTM F1844-97(2008)..
Cookies
Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
ASTM F1709-97(2008)
Standard Specification for High Purity Titanium Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
Automaticky preložený názov:
Štandard Specification pre High Purity titánové rozprašovacích pre elektronickú Thin Film aplikácií
NORMA vydaná dňa 15.6.2008
Informácie o norme:
Označenie normy: ASTM F1709-97(2008)
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 15.6.2008
Kód tovaru: NS-51256
Počet strán: 3
Približná hmotnosť: 9 g (0.02 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM
Kategórie - podobné normy:
Anotácia textu normy ASTM F1709-97(2008) :
Keywords:
coating, sputtering, target, thin film, titanium, Electronic materials/applications--specifications, Electronic thin-film applications--specifications, High-purity titanium, Sputtering process/targets--specifications, Thin film applications, Titanium sputtering targets, Titanium (Ti)/alloys--specifications, ICS Number Code 31.120 (Electronic display devices)
Doplňujúce informácie
| 1. Scope | ||
|
1.1 This specification covers pure titanium sputtering targets used as a raw material in fabricating semiconductor electronic devices. 1.2 This standard sets purity grade levels, physical attributes, analytical methods, and packaging. 1.2.1 The grade designation is a measure of total metallic impurity content. The grade designation does not necessarily indicate suitability for a particular application because factors other than total metallic impurity may influence performance. |
||
| 2. Referenced Documents | ||
|
Podobné normy:
Historická
1.9.2011
Historická
1.4.2010
Historická
15.6.2008
Historická
15.6.2008
Doporučujeme:
