Cookies
Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
ASTM F1709-97(2002)
Standard Specification for High Purity Titanium Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
Automaticky preložený názov:
Štandardné špecifikácie pre High Purity titánové rozprašovanie ciele pre elektronické Thin Film Applications
NORMA vydaná dňa 10.12.2002
Informácie o norme:
Označenie normy: ASTM F1709-97(2002)
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 10.12.2002
Kód tovaru: NS-51255
Počet strán: 3
Približná hmotnosť: 9 g (0.02 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM
Anotácia textu normy ASTM F1709-97(2002) :
Keywords:
coating, sputtering, target, thin film, titanium, ICS Number Code 31.120 (Electronic display devices)
Doplňujúce informácie
| 1. Scope | ||
|
1.1 This specification covers pure titanium sputtering targets used as a raw material in fabricating semiconductor electronic devices. 1.2 This standard sets purity grade levels, physical attributes, analytical methods, and packaging. 1.2.1 The grade designation is a measure of total metallic impurity content. The grade designation does not necessarily indicate suitability for a particular application because factors other than total metallic impurity may influence performance. |
||
| 2. Referenced Documents | ||
|
Odporúčame:
Aktualizácia technických noriem
Chcete mať istotu, že používate len platné technické normy?
Ponúkame Vám riešenie, ktoré Vám zaistí mesačný prehľad o aktuálnosti noriem, ktoré používate.
Chcete vedieť viac informácií ? Pozrite sa na túto stránku.
