Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
Standard Specification for Refractory Silicide Sputtering Targets for Microelectronic Applications
Automaticky preložený názov:
Štandardné špecifikácie pre Refraktérnej silicidy rozprašovanie ciele pre mikroelektronických aplikácií
NORMA vydaná dňa 10.12.1999
Označenie normy: ASTM F1238-95(1999)
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 10.12.1999
Kód tovaru: NS-49599
Počet strán: 2
Približná hmotnosť: 6 g (0.01 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM
Keywords:
density, microelectronics, molybdenum, disilicide, refractory silicides, sputtering, sputtering targets, tantalum disilicide, titanium disilicide, tungsten disilicide, ICS Number Code 31.100 (Electronic tubes)
| 1. Scope |
|
1.1 This specification covers sputtering targets fabricated from metallic silicides (molybdenum silicide, tantalum silicide, titanium silicide, and tungsten silicide). These targets are referred to as refractory silicide targets, and are intended for use in microelectronic applications. 1.2 The values stated in SI units are regarded as standard. |
Posledná aktualizácia: 2025-12-18 (Počet položiek: 2 252 678)
© Copyright 2025 NORMSERVIS s.r.o.