Cookies
Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
ASTM F1152-02
Standard Test Method for Dimensions of Notches on Silicon Wafers (Withdrawn 2003)
Automaticky preložený názov:
Štandardná skúšobná metóda pre Rozmery zárezy na kremíkových plátkov ( Withdrawn 2003 )
NORMA vydaná dňa 10.1.2002
Informácie o norme:
Označenie normy: ASTM F1152-02
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 10.1.2002
Kód tovaru: NS-49310
Počet strán: 4
Približná hmotnosť: 12 g (0.03 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM
Anotácia textu normy ASTM F1152-02 :
Keywords:
notch, notch dimension, optical comparator, silicon, wafer, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
Doplňujúce informácie
| 1. Scope |
|
This standard was transferred to SEMI (www.semi.org) May 2003 1.1 This test method covers a nondestructive procedure to determine whether or not the dimensions of fiducial notches on silicon wafers fall within specified limits. 1.2 The values stated in SI units are to be regarded as the standard. The values given in parentheses are for information only. 1.3 This standard does not purport to address all of the safety problems, if any, associated with its use. It is the responsibility of the user of this standard to establish appropriate safety and health practices and determine the applicability of regulatory limitations prior to use. |
Doporučujeme:
