ISO 23170:2022

Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering

NORMA vydaná dňa 15.6.2022

Anglicky -
Elektronické PDF (203.20 EUR)

Anglicky -

Tlačené (203.20 EUR)

Informácie o norme:

Označenie normy: ISO 23170:2022
Dátum vydania normy: 15.6.2022
Počet strán: 29
Približná hmotnosť: 87 g (0.19 libier)
Krajina: Medzinárodná technická norma
Kategória: Technické normy ISO

Anotácia textu normy ISO 23170:2022 :

Description / Abstract: This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).