GB/T 14847-2025

Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates—Infrared reflectance method

NORMA vydaná dňa 31.10.2025

Anglicky a čínsky -
Elektronické PDF (NA OTÁZKU)

Anglicky a čínsky -

Tlačené (NA OTÁZKU)

The information about the standard:

Designation standards: GB/T 14847-2025
Note: K dispozici od: květen 2026
Publication date standards: 31.10.2025
Country: Chinese technical standard
Kategória: Technické normy GB