Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicon-dioxide coating, optical method.
NORMA vydaná dňa 1.8.2023
Označenie normy: DIN 50453-2:2023-08
Dátum vydania normy: 1.8.2023
Počet strán: 9
Približná hmotnosť: 27 g (0.06 libier)
Krajina: Nemecká technická norma
Kategória: Technické normy DIN
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren.