ASTM F950-98

Standard Test Method for Measuring the Depth of Crystal Damage of a Mechanically Worked Silicon Slice Surface by Angle Polishing and Defect Etching

NORMA vydaná dňa 10.5.1998

Anglicky -
PDF - okamžité stiahnutie (70.50 EUR)

Anglicky -

Tlačené (70.50 EUR)

Informácie o norme:

Označenie normy: ASTM F950-98
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 10.5.1998
Počet strán: 5
Približná hmotnosť: 15 g (0.03 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM

Anotácia textu normy ASTM F950-98 :

Keywords:
bevel polish, damage-depth, defect, preferential etch, silicon, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)