Standard Test Method for Measuring the Depth of Crystal Damage of a Mechanically Worked Silicon Slice Surface by Angle Polishing and Defect Etching (Withdrawn 2003)
NORMA vydaná dňa 10.12.2002
Označenie normy: ASTM F950-02
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 10.12.2002
Počet strán: 6
Približná hmotnosť: 18 g (0.04 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM
Keywords:
bevel polish, damage-depth, defect, preferential etch, silicon, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)