ASTM F518-77(1991)E01

Practice for Determining Effective Adhesion of Photoresist to Hard-Surface Photomask Banks and Semiconductor Wafers During Etching (Withdrawn 1996)

Anglicky -
Online zabezpečené PDF (71.10 EUR)

Anglicky -

Tlačené (71.10 EUR)

Informácie o norme:

Označenie normy: ASTM F518-77(1991)E01
Poznámka: NEPLATNÁ
Počet strán: 5
Približná hmotnosť: 15 g (0.03 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM