
Standard Test Method for Counting Preferentially Etched or Decorated Surface Defects in Silicon Wafers (Withdrawn 2003)
NORMA vydaná dňa 10.6.1997
Označenie normy: ASTM F1810-97(2002)
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 10.6.1997
Počet strán: 4
Približná hmotnosť: 12 g (0.03 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM
Keywords:
defect density, dislocation, grain boundary, microscopic, polycrystalline imperfection, preferential etch, silicon, slip, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)