NORMSERVIS s.r.o.

ASTM F1727-02

Standard Practice for Detection of Oxidation Induced Defects in Polished Silicon Wafers (Withdrawn 2003)

NORMA vydaná dňa 10.12.2002

Anglicky -
Online zabezpečené PDF (63.10 EUR)
Anglicky -
Tlačené (63.10 EUR)

Informácie o norme:

Označenie normy: ASTM F1727-02
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 10.12.2002
Počet strán: 3
Približná hmotnosť: 9 g (0.02 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM

Anotácia textu normy ASTM F1727-02 :

Keywords:
defects, dislocation, epitaxy, hillock, imperfections, oxidation, preferential etch, shallow pit, silicon, slip, stacking fault, swirl, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)