Standard Guide for Analyis of Crystallographic Perfection of Silicon Wafers (Withdrawn 2003)
NORMA vydaná dňa 10.12.2002
Označenie normy: ASTM F1726-02
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 10.12.2002
Počet strán: 3
Približná hmotnosť: 9 g (0.02 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM
Keywords:
dislocation, epitaxy, grain boundaries, hillock, polycrystalline imperfections, preferential etch, shallow pit, silicon, slip, stacking fault, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)