
Standard Practice for Shallow Etch Pit Detection on Silicon Wafers (Withdrawn 2003
NORMA vydaná dňa 10.12.2002
Označenie normy: ASTM F1049-02
Poznámka: NEPLATNÁ
Dátum vydania normy: 10.12.2002
Počet strán: 4
Približná hmotnosť: 12 g (0.03 libier)
Krajina: Americká technická norma
Kategória: Technické normy ASTM
Keywords:
epitaxial, oxidation, preferential etch, saucer pit, shallow etch pit, silicon, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)