Potrebujeme váš súhlas na využitie jednotlivých dát, aby sa vám okrem iného mohli ukazovať informácie týkajúce sa vašich záujmov. Súhlas udelíte kliknutím na tlačidlo „OK“.
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods.
Automaticky preložený názov:
Polovodičové prístroje - Micro - elektromechanické zariadenia - Časť 16 : Skúšobné metódy na stanovenie pnutia MEMS filmov - oblátkové zakrivenie a konzolové odrazu lúča metódy.
NORMA vydaná dňa 1.12.2015
Označenie normy: DIN EN 62047-16:2015-12
Dátum vydania normy: 1.12.2015
Kód tovaru: NS-620810
Počet strán: 13
Približná hmotnosť: 39 g (0.09 libier)
Krajina: Nemecká technická norma
Kategória: Technické normy DIN
Polovodičová zařízení obecně
Elektromechanické komponenty obecně
Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 16: Messverfahren zur Ermittlung der Eigenspannungen in Dünnschichten von MEMS-Bauteilen - Substratkrümmungs- und Biegebalken-Verfahren.
Posledná aktualizácia: 2024-04-23 (Počet položiek: 2 895 375)
© Copyright 2024 NORMSERVIS s.r.o.